在真空環(huán)境產(chǎn)生等離子體的原因很多,主要有以下兩個(gè)原因:
      引入真空室的氣體在壓力環(huán)境下不會(huì)電離,在充入氣體電離產(chǎn)生等離子體之前bi須達(dá)到真空環(huán)境。另外，真空環(huán)境允許我們控制真空室中氣體種類，這對(duì)等離子處理體過(guò)程的可重復(fù)性是至關(guān)重要的。
     要進(jìn)行等離子處理產(chǎn)品,首先我們要產(chǎn)生等離子體。首先，單一氣體或者混合氣體被引入密封的低壓真空等離子體室。隨后這些氣體被兩個(gè)電極板之間產(chǎn)生的射頻(RF) 激活，這些氣體中被激活的離子加速，開(kāi)始震動(dòng)。這種振動(dòng)“用力擦洗"需要清洗材料表面的污染物。
     在處理過(guò)程中,等離子體中被激活的分子和原子會(huì)發(fā)出紫外光，從而產(chǎn)生等離子體輝光。溫度控制系統(tǒng)常用于控制刻蝕速率。60 - 9d攝氏度溫度之間刻蝕，是室溫刻蝕速度的四倍。對(duì)溫度敏感的部件或組件,等離子體蝕刻溫度可以控制在15攝氏度。我們所有的溫度控制系統(tǒng)已經(jīng)預(yù)編程并集成到等離子體系統(tǒng)的軟件中間。設(shè)置保存每個(gè)等離子處理的程序能輕松復(fù)制處理過(guò)程。
     可以通過(guò)向等離子體室中引入不同氣體，改變處理過(guò)程。常用的等離子處理.氣體包括02、N2,Ar,H2 和CF4。大多數(shù)實(shí)驗(yàn)室，基本上都使用這五種氣體單獨(dú)或者混合使用進(jìn)行等離子體處理。

等離子體處理過(guò)程通常需要大約兩到十分鐘。當(dāng)?shù)入x子體處理過(guò)程完成時(shí),真空泵去除等離子室中的污染物，室里面的材料是清潔,消過(guò)毒的,可以進(jìn)行粘接或下一步程序。

     杭州嘉維創(chuàng)新科技有限公司是多家先進(jìn)儀器制造商的合作伙伴。代理銷售東京理化EYELA、威伊WELCH、日立、isco、CEM、biotek、布魯克海文Brookhaven、布勞恩MBRAUN、雅馬拓yamato、賽默飛世爾Thermo等公司的溶劑純化系統(tǒng)、手套箱、平行蒸發(fā)儀、真空濃縮儀、微通道反應(yīng)器、微波合成儀、流動(dòng)反應(yīng)器、平行合成儀、反應(yīng)量熱儀、低溫反應(yīng)器、低溫冷卻液循環(huán)泵、冷水機(jī)、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、分子蒸餾儀、冷凍干燥機(jī)、噴霧干燥機(jī)、快速制備色譜儀、質(zhì)構(gòu)儀、粒度儀、酶標(biāo)儀、真空泵等設(shè)備，并提供技術(shù)售后服務(wù)。